スミレジスト®

i線からKrFエキシマ、ArFエキシマ、液浸ArFエキシマ、EUVに至るまでの様々な露光プロセスに対応した豊富なラインナップを取り揃えるとともに、更なる高性能化を追求しています。i線用フォトレジストでは各種用途にマッチした幅広い製品を揃え、また、最先端プロセスであるEUVおよび液浸ArF用フォトレジストでは、ユーザーの開発スピードに応えながら、超高解像性能かつ品質の安定した製品を供給し、半導体デバイスの進化に貢献しています。
さらに、高集積・大容量化が進む3次元フラッシュメモリの製造や、半導体デバイスのパッケージング工程で使われる厚膜レジストなど、新しい用途にも高性能・高品質の製品を提供しています。