KNN（(K, Na)NbO3）圧電薄膜ウエハ
スパッタ法で成膜した鉛を含まないKNN（(K, Na)NbO3）圧電薄膜ウエハを提供しています。高スループット・大口径・高い面内均一性を実現する自社技術により、アクチュエータ応用 (高圧電定数・高耐圧・長寿命)だけでなく、センサ応用（低誘電率・自発分極保持）等の幅広い用途での使用が可能です。
KNN膜ウエハおよびパターニングしたKNN膜ウエハ（6インチおよび8インチ）
応用分野
- センサ
角速度センサ (ジャイロセンサ)、超音波センサ(PMUT)、加速度センサ - アクチュエータ
MEMSミラー (LiDAR, HUD, HMD）、インクジェットヘッド、焦点可変レンズ - 各種MEMSデバイス
小型スピーカー、振動発電 (エナジーハーベスタ)、レゾネーター
特徴
- 実用レベルの性能を有する業界唯一の鉛フリーKNN圧電薄膜
- 環境負荷物質 (鉛：Pb) を用いずPZT (Pb(Zr, Ti)O3 )薄膜と同等レベルの圧電性能を実現
- スパッタ法により緻密な1軸配向多結晶KNN薄膜を実現
- 大口径 (4インチ, 6インチおよび8インチ) ウエハに均一な成膜が可能
- 応用分野に応じて、センサ仕様膜とアクチュエータ仕様膜の作り分けが可能
- PZTと比べてDCストレス寿命と自発分極保持可能温度で大きく勝る
断面SEM
X線回折パターン（2θ/θ）
積層構造
製品
- KNN成膜シリコンウエハ (SOIウエハ、支給ウエハ含む)
- MEMSデバイス構造形成ウエハ (フォトマスクデータ支給で試作対応可能)
MEMSデバイス構造 (例)
KNN薄膜の性能一覧表
PEヒステリシス特性
アクチュエータタイプ
PEヒステリシス特性
センサータイプ
